本报讯 记者孙潜彤报道：列入国家重大科技专项的首台国产12英寸PECVD样机近日于沈阳出厂。这是我国自主开发研制关键IC装备国产化的重大突破。

12英寸PECVD设备是当今国际主流薄膜沉积设备，是芯片制造过程中4种最基本、最重要的设备之一。在国家中长期科学和技术发展规划纲要中，将集成电路制造产业的重点发展项目列为国家十六个重点支持的专项之一。《90-65nm等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备的研发与产业化》项目是2008年9月首批启动的国家“十一五”重大专项中最大单体项目之一，是沈阳首批落实的惟一的项目，项目总投资3.5亿元。

据悉，该项装备在完成客户在线测试后即可实现销售。